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박막두께측정시스템 (ST2000 for Basic Research)
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  • 박막두께측정시스템 (ST2000 for Basic Research)

    박막두께측정시스템 (ST2000 for Basic Research)

  • 박막두께측정시스템 (ST2000 for Basic Research)

제조사(브랜드) K-MAC
판매사/수입사 4science
납기일 6주 이내
담당자 정보 031-8018-7276, 7292
제품 사양서 인쇄
첨부파일 1 박막두께측정장비.pdf 다운로드
Cat. No. 모델명 제품명 사양 판매단위 판매가 수량
31-00466-01 ST2000 박막두께측정시스템 200Å~ 35㎛(Depends on Film Type) 1set/pk 32,670,000원
- +
선택한 모델 총 0개

※ 최소 주문 가능 금액 : 3만원

부가세 포함 / 0 원

The advantage of infinity - corrected optics
Optics solve the problem of coma aberration by using a new tube lens

Stage Size 150 x 120mm(70 x 50mm Travel Distance)
Measurement Range 200Å~ 35㎛(Depends on Film Type)
Spot size 20㎛ Typically
Measurement Speed 0.5 sec/site Typically
Application Areas Polymers : PVA, PET, PP, PR ...
Dielectrics : SiO2, TiO2 ITO, ZrO2, Si3N4 ...
Semiconductors : Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS...
*Supporting up to 3 Layers
*Supporting Backside Reflection
Head Trinocular Head
Eyepieces WF 10×(DIN): FN=18
Nosepiecs Quadruple Revolving Mechanism with Inward Tilt
Total Magnification 40× ~ 500×
Type of Illumination 12v 20W Halogen Lamp Built-in Control Device & Transformer
 
° 본 장비는 UV-Vis광을 측정 대상에 조사하고 측정 대상에서 반사되는 빛을 이용하여 막의
두께를 측정하는 제품이다. 이 제품은 유전체 박막을 연구 개발하거나 생산하는 현장에서 주로
사용되며, 특히 반도체 및 디스플레이 관련 사업장에서 In-Line monitoring 기기로 활용된다.


:: 특장점 ::

1) 광을 이용하는 방식이므로 비접촉식, 비 파괴식으로 시료에 손상을 주지 않는다.
2) 두께 및 n,k 데이터를 얻을 수 있다.
3) 신속, 정확하며 측정을 위하여 시료를 파괴 또는 가공할 필요가 없다.
4) 3층의 다층막도 측정이 가능하다.
5) 용도에 따라 수동형과 자동형 선택이 가능하다.
6) 제품의 모델이 다양하며 또한 고객의 요구에 따른 제품 설계가 가능하다.
7) Wafer/LCD 기판 상의 막 두께 측정 가능 (스테이지 사이즈 6", 8", 12" ...)

Thin Film Measurement Systems
시스템 구성도
시스템 부속품
1) UV/Vis. 분석을 위한 Detector
2) 광학 현미경 + 샘플 스테이지
3) 프린터 케이블 및 전원 공급 장치 어댑터
4) 굴절률 및 흡광 계수와 3개 모델식에 의한 Curve Fitting S/W
특 징
1) 반사량에 근거하여 두께를 측정한다.
2) 400~850nm 파장의 빛을 이용하여 측정한다.
3) 박막의 광학 상수인 n, k 및 t 값을 신속하게 표현해 낸다.
4) 두께 측정 분야의 시장을 선도하는 광학 방식을 이용한다.
5) 값이 정확하고, 대상 표면의 손상이 전혀 없으며, α-step과 비교해 볼 때 샘플의 전처리 과정이 필요없다.
원 리
2종 이상의 막 조합에서 막의 광학 상수인 굴절률, 두께, 소광 계수는 막의 표면과 게면에서 각각 반사되어 나타나는 파장에 따른 간섭 주기 및 소실 특성으로부터 계산되어 집니다.
(두꺼운 막일수록 간섭 주기는 빈번하게 나타남.)
응용 분야
Fabrication Oxides, Nitrides, Photo-resist, Poly-Si...
LCD a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx, Oxides, PI, ITO, Cell Gap, Photoresist & Polyimide film...
Optical coating Hard coating, Anti-reflection coating, Filters, Packing & Functional film...
Recordable materialsv Photosensitive drum, Video head, Photo masks, Optical disk...
Other CRT photoresist film, Shadow Masks, Thin metal films, Laser mirrors...
필름 샘플
SiNx a-Si DLC GaN
SiOx a-C:H SOG ITO
SiOxNy Polysilicon Polyimide Photoresist
매질 샘플
Silicon SOI AL2O3 Aluminium
SOS GaAs Glass ......
소프트웨어
- 기판 상의 다층 박막 두께 및 광학 상수 n, k 측정 가능
- 기판의 배면 및 배면의 다층 박막에서의 반사광 고려 가능
- 다양한 n, k 모델 지원 (Cauchy, Cauchy Expotential, Sellmeier)
- 반사율 데이터 실시간 수집 표시
- 두께 변화량을 실시간으로 측정, 시각별로 디스플레이/출력
- 피팅 중 두께 및 n,k 상수 / n, k 그래프의 실시간 변화 상황 관찰 가능
- 빠른 데이터 수집 및 시뮬레이션으로 수초 이내 측정 완료
- 데이터 수집 및 처리를 반복하는 자동 측정 기능
- 300여 개의 n, k 광학 상수 데이터 지원
- 데이터 수집 파라미터 조절에 의한 신호 강도 대응 및 잡음 민감도 조정 기능
- Windows 기반의 S/W로 Excel, Origin, MS-Word 등으로 측정 결과 전달 가능
- 측정 환경 저장 및 복원 가능



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